Samarbeider om 20 nm
ST melder at de i samarbeid med Synopsys har oppnådd en vellykket ”tape out” av sin første testbrikke i 20 nm teknologi.
Denne artikkelen er 2 år eller eldre
Designverktøyleverandøren Synopsys, Inc. og STMicroelectronics (ST) skal ha samarbeidet tett i den vellykkede tapeouten av STs første 20 nanometer (nm) demonstratorbrikke.
Tape out vil si at man har et ferdig kretsdesign i den grad at det kan sendes til halvlederfabrikken for masking.
Dette skal være en viktig milepæl i FoU-samarbeidet mellom de to selskapene, der man har tatt sikte på å utvikle en omfattende designløsning for systembrikke (SoC) ICer basert på STs nestegenerasjon 20nm prosess teknologi, som er tatt frem i samarbeid med deres ISDA (International Semiconductor Development Alliance) partnere i Fishkill, New York.
Forskningsteam fra de to selskapene har gjennom det siste året jobbet sammen for å legge grunnlaget for det 20 nm designmiljøet, og samarbeidet innen ulike områder fra rutberhetsoptimalisering av standard celle bibliotek, til koding av kompleks ruting, parasittisk ekstrahering og regler for designregelsjekk (DRC).
ST forventer å ha testbrikkene i silisium allerede i andre kvartal i år.
